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2021年口腔助理醫(yī)師模擬試卷第2單元(21-30題)

關(guān)于“2021年口腔助理醫(yī)師模擬試卷第2單元(21-30題)”,醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理分享具體資料如下:

模擬試題 30

21.多形性腺瘤在大唾液腺中的好發(fā)部位依次是

A.腭腺、腮腺

B.腮腺、腭腺

C.腮腺、頜下腺

D.頜下腺、腭腺

E.腮腺、舌下腺

【正確答案】C

【答案解析】多形性腺瘤最常見于腮腺,其次為下頜下腺,舌下腺極少見。發(fā)生于小唾液腺者,以腭部為最常見。

22.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位的癥狀類似翼外肌痙攣,區(qū)別點是

A.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位測被動張口度時開口度不能增大

B.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位開口型偏向健側(cè)

C.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位無疼痛

D.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位開口初期有彈響

E.不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位無張口受限

【正確答案】A

【答案解析】不可復(fù)性關(guān)節(jié)盤前移位測被動張口時開口度不能增大而翼外肌痙攣則可以。

23.顳下頜關(guān)節(jié)紊亂的致病因素不包括

A.精神心理因素

B.口腔衛(wèi)生差

C.關(guān)節(jié)負(fù)荷過重

D.偏側(cè)咀嚼習(xí)慣

E.免疫學(xué)因素

【正確答案】B

【答案解析】顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病的發(fā)病原因目前尚未完全闡明,病因?qū)W說很多,與發(fā)病相關(guān)因素包括:心理社會因素、(牙合)因素、免疫因素、關(guān)節(jié)負(fù)荷過重、關(guān)節(jié)解剖因素以及關(guān)節(jié)區(qū)受冷及不良生活習(xí)慣等其他因素。

24.下列關(guān)于不完全性腭裂描述中正確的是

A.是部分腭裂

B.軟腭完全裂開伴有部分硬腭裂

C.可伴發(fā)單側(cè)不完全唇裂,牙槽突常完整

D.本型無左右之分

E.以上都對

【正確答案】E

【答案解析】不完全性腭裂亦稱部分腭裂。軟腭完全裂開伴有部分硬腭裂;有時伴發(fā)單側(cè)不完全唇裂,但牙槽突常完整。本型也無左右之分。

25.唇裂手術(shù)時應(yīng)進行全面體檢,哪項除外

A.皮膚病

B.健康狀況

C.體重

D.裂隙大小

E.呼吸道感染

【正確答案】D

【答案解析】一般認(rèn)為,單側(cè)唇裂整復(fù)術(shù)最合適的年齡為3~6個月,體重達5~6kg以上。早期進行手術(shù),可以盡早地恢復(fù)上唇的正常功能和外形,并可使瘢痕組織減少到最小程度。術(shù)前必須進行全面體檢。包括體重、營養(yǎng)狀況、心肺情況;有無上呼吸道感染以及消化不良;面部有無濕疹、癤瘡、皮膚病等。

26.腭部較高患者拍攝牙根尖片分角線投照,X線中心線應(yīng)

A.水平角度不變,減少垂直角度

B.垂直角度不變,水平角度向近中傾斜

C.水平角度、垂直角度均不變

D.水平角度不變,增加垂直角度

E.垂直角度不變,水平角度向遠中傾斜

【正確答案】A

【答案解析】腭部較高,膠片在口內(nèi)放置較為垂直,X線中心線應(yīng)該減少垂直角度。

27.唇癌最容易發(fā)生于

A.上唇內(nèi)側(cè)唇黏膜

B.上唇中外1/3間唇紅緣部黏膜

C.下唇內(nèi)側(cè)唇黏膜

D.下唇中外1/3間唇紅緣部黏膜

E.下唇唇部皮膚

【正確答案】D

【答案解析】唇癌多發(fā)生于下唇,常發(fā)生于下唇中外1/3間的唇紅緣部黏膜。

28.常發(fā)生于顳淺動脈所在的顳部的是

A.血管瘤

B.靜脈畸形

C.微靜脈畸形

D.動靜脈畸形

E.囊性水瘤

【正確答案】D

【答案解析】動靜脈畸形多見于成年人,幼兒少見。常發(fā)生于顳淺動脈所在的顳部或頭皮下組織中。

29.(牙合)面嵌體洞型的洞深應(yīng)為

A.大于2mm

B.2mm

C.1.75mm

D.1.5mm

E.1.25mm

【正確答案】A

【答案解析】嵌體的牙體預(yù)備:一般深度應(yīng)大于2mm,所有軸壁均應(yīng)相互平行或向外展2°~5°,并與嵌體就位道一致。

30.齦上邊緣適用于

A.鄰接區(qū)到達齦嵴處

B.牙齦退縮明顯者

C.(牙合)齦徑過短牙

D.缺損至齦下

E.要求不顯露修復(fù)體金屬邊緣

【正確答案】B

【答案解析】考慮修復(fù)體邊緣位置時應(yīng)盡可能設(shè)計齦上邊緣,這是因為齦上邊緣或與齦緣平齊不僅容易制備,不會損傷軟組織,而且容易保持清潔,容易制備印模。齦下邊緣常常是牙周病的致病因素,應(yīng)盡量少設(shè)計。不過下列情況設(shè)計齦下邊緣被認(rèn)為是合理的:齲壞、楔狀缺損達到齦下。鄰接區(qū)到達齦嵴處。修復(fù)體需要增加固位力。要求不顯露修復(fù)體金屬邊緣。牙根部過敏不能用其他保守方法消除。即使設(shè)計齦下邊緣,修復(fù)體的邊緣也要盡可能離開齦溝底的結(jié)合上皮,減少對牙齦的刺激。一般要求齦邊緣距齦溝底至少0.5mm。

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