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【生物化學】嘌呤核苷酸從頭合成時首先生成的是
A.GMP
B.AMP
C.IMP
D.ATP
E.GTP
學員提問：老師，請問其全過程？
答案與解析：本題的正確答案是Ｃ。
嘌呤核苷酸從頭合成從5’-磷酸核糖開始，首先生成IMP。IMP合成途徑可分為二段11步反應，第一階段生成5’-磷酸核糖-1’-焦磷酸（PRPP）。第二階段生成IMP。IMP的生成過程：PRPP在谷氨酰胺PRPP酰胺基轉移酶作用下生成5’-磷酸核糖胺，在甘氨酰胺核苷酸合成酶作用下生成甘氨酰胺核苷酸，在轉甲酰基酶作用下生成甲酰甘氨酰胺核苷酸，在甲酰甘氨咪核苷酸合成酶作用下，生成甲酰甘氨咪核苷酸，在5-氨基咪唑核苷酸合成酶作用下，生成5-氨基咪唑核苷酸，在5-氨基咪唑核苷酸羧化酶作用下，生成5-氨基咪唑-4-羧酸核苷酸，在N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸合成酶作用下，生成N-琥珀酰-5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在腺苷酸代琥珀酸裂解酶作用下生成5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在5-氨基咪唑-4-甲酰胺核苷酸轉甲酰基酶作用下，生成5-甲酰胺基咪唑-4-甲酰胺核苷酸，在IMP合酶作用下，生成次黃嘌呤核苷酸（IMP）。
【藥理學】能降低糖耐量：
A.螺內酯
B.呋塞米
C.氫氯噻嗪
D.氨苯蝶啶
E.甘露醇
學員提問：老師，請解釋？
答案與解析：本題的正確答案是Ｃ。
氫氯噻嗪不良反應：
1．電解質紊亂 如低血鉀、低血鎂、低氯堿血癥等。
2．潴留現(xiàn)象 如高尿酸血癥、高鈣血癥，主要是藥物減少細胞外液容量，增加近曲小管對尿酸的再吸收所致，痛風者慎用。
【流行病學】相對危險度（RR）是隊列研究中反映暴露與發(fā)�。ㄋ劳觯╆P聯(lián)強度的指標,下列說法哪一個是正確的
A.RR95％可信區(qū)間（CI）的上限>1,認為暴露與疾病呈“正”關聯(lián)，即暴露因素是疾病的危險因素
B.RR95％CI的下限1，認為暴露與疾病呈“負”關聯(lián)，即暴露因素是保護因素
D.RR95％CI包括1，則認為暴露因素與疾病有統(tǒng)計學聯(lián)系
E.RR95％CI包括1，則認為暴露因素與疾病無統(tǒng)計學聯(lián)系
學員提問：老師謝謝您，請問此題如何分析？
答案與解析：本題的正確答案是Ｅ。
由此可知RR95％CI包括1，則認為暴露因素與疾病無統(tǒng)計學聯(lián)系。
【衛(wèi)生統(tǒng)計學】方差分析中有
A.F值不會是負數(shù)
B.F值不會小于1
C.F值可以是負數(shù)
D.組間MS不會小于組內MS
E.組間SS不會小于組內SS
學員提問：老師，請問為什么？
答案與解析：本題的答案是Ａ。
方差分析中計算的離均差平方和SS是正值，MS＝SS/υ，而F＝MS組間/MS組內，所以F值的取值范圍為0～+∝，MS組間與MS組內沒有確定的大小關系。
計算出統(tǒng)計量F值，以自由度υ組間與υ組內查方差分析用的F界值表，找出Fα，根據(jù)計算出的F值與Fα相比較，如果F＞Fα，則有p＜α；如果F＜Fα，則有p＞α。作出統(tǒng)計推斷。
【生理學】絕對不應期出現(xiàn)在動作電位的哪一時相：
A.峰電位
B.負后電位
C.正后電位
D.除極相
E.恢復相
學員提問：什么是峰電位？峰電位的離子基礎是什么？
答案與解析：本題的正確答案是Ａ。
動作電位全過程包括鋒電位和后電位兩大部分。鋒電位（spike potential）在刺激后幾乎立即出現(xiàn)，其幅度為靜息電位與超射值之和，并服從全或無定律和非遞減性傳導。后電位（after potential）：鋒電位過后即為歷時較長的后電位：先為負后電位，歷時約15毫秒，其幅度約為鋒電位的5～6％，正后電位（positive after potential）其幅度僅為鋒電位的0.2％。
鋒電位的離子基礎是鈉通道開放，鈉離子的大量內流。
【勞動衛(wèi)生與職業(yè)病學】氮氧化物中毒的急性臨床表現(xiàn)主要是
A.刺激呼吸道深部，引起咳嗽、咳痰
B.致肺水腫
C.引起呼吸道炎癥及肺炎
D.迷走神經(jīng)反射性心跳驟停
E.以上都不是
學員提問：老師，為什么？謝謝
答案與解析：本題的答案是Ｃ。
氮氧化物急性吸入可致化學性氣管炎、化學性肺炎，嚴重時可致化學性肺水腫。
刺激呼吸道深部，引起咳嗽、咳痰，是氣管炎和肺炎的具體表現(xiàn)，可以出現(xiàn)在急性期，也可以出現(xiàn)在慢性期，而導致肺水腫是氮氧化物重度中毒的表現(xiàn)。
根據(jù)最優(yōu)選項原則，所以本題的答案是Ｃ。
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