關(guān)于影響口腔正畸治療的因素主要是什么，醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理相關(guān)資料如下，供大家了解學(xué)習(xí)。

平面是在牙尖交錯(cuò)位時(shí)代表上下頜牙齒頜面的一條抽象線，平面具有兩個(gè)特性，即平面的水平高度和斜度。在綜合性治療中，部分患者可能需要改變起特性。

1、平面的斜度

平面的斜度是以與FH平面相關(guān)的角度來表示。在決定正常治療計(jì)劃時(shí)，需了解自然平面，即平面與后牙的長(zhǎng)軸傾斜度一致，后牙的長(zhǎng)軸傾可以在常規(guī)頭影側(cè)位片和45°頭影側(cè)位片上觀察到。它通過第一磨牙的近中頰尖所形成。當(dāng)確定了自然平面之后，異常的牙齒長(zhǎng)軸必須糾正。在大多數(shù)患者的上下平面，如同左右側(cè)平面一樣是一致的。而開患者的上頜與下頜平面不一致，非對(duì)稱畸形患者的左右側(cè)平面斜度可能不一致。醫(yī)學(xué)——教育網(wǎng)搜集整理

平面的斜度可能較陡，也可能較平坦。改變平面的斜度可能會(huì)改變平面的變化也可改變后牙的長(zhǎng)軸，使治療更困難，使頜穩(wěn)定性變差。

2、平面的水平高度

平面的水平高度是通過與FH垂直，穿過鼻點(diǎn)的線進(jìn)行測(cè)量。隨著生長(zhǎng)，它與自然平面相平行，位于間生長(zhǎng)空間的1/3.在口外支抗的輔助下，可以通過阻止上頜牙齒的萌出，保持平面的正常高度，這適合于上頜切牙顯露過多的患者。正常情況下在休息或說話時(shí)，上頜切牙在上唇下顯露約2-4mm，微笑時(shí)牙齦顯露極少。

影響平面水平高度的其他異常因素是上、下頜齒槽骨或者伴有伸舌習(xí)慣的前牙開頜患者。上頜齒槽骨發(fā)育過度、上唇短縮或者翻卷也可使平面的水平高度顯得過低，這類患者正畸治療比較困難，需要考慮正頜外科治療。

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