牙釉質(zhì)的形成：

牙本質(zhì)基質(zhì)作用于內(nèi)釉上皮分化成功能性成釉細(xì)胞，內(nèi)含粗面內(nèi)質(zhì)網(wǎng)、線粒體及分泌顆粒，開始在罩牙本質(zhì)表面形成一層無釉柱釉基質(zhì)。成釉細(xì)胞離開基底膜并在基底膜一端形成托姆斯突。

釉質(zhì)基質(zhì)在粗面內(nèi)質(zhì)網(wǎng)中合成，在高爾基氏體中濃縮，然后從細(xì)胞頂端和突起中分泌出來，新分泌的釉基質(zhì)主要是有機(jī)成分，含礦物為30%.

釉基質(zhì)礦化

當(dāng)釉基質(zhì)形成到應(yīng)有厚度時(shí)，即開始礦化。

釉質(zhì)礦化是從釉質(zhì)表面向深層擴(kuò)散一直到最內(nèi)層。再由內(nèi)層向表層礦化，醫(yī)|學(xué)教育網(wǎng)搜集整理外層釉質(zhì)礦化程度最高。

成釉器的變化

釉質(zhì)形成后，成釉細(xì)胞在釉質(zhì)表面分泌一層無結(jié)構(gòu)的有機(jī)薄膜覆蓋在牙冠表面，稱為釉小皮

釉質(zhì)發(fā)育完成后，成釉器幾層細(xì)胞縮合一層鱗狀上皮覆蓋在釉小皮上，稱之為縮余釉上皮（reduceddentalepithelium）。