相信很多人對口腔病理科住院醫(yī)師規(guī)范化培訓(xùn)習(xí)題及答案解析非常感興趣，醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)整理相關(guān)內(nèi)容如下，希望對大家有幫助！

題干：下列部位是使用可摘局部義齒最容易造成疼痛的部位，除了

A 尖牙唇側(cè)

B 牙槽嵴頂

C 上頜隆突

D 上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)

E 內(nèi)斜嵴處

參考答案：B

解析：患者戴用可摘局部義齒后最易造成疼痛的部位是選項(xiàng)A、C、D、E所述的部位，因?yàn)檫@些部位是骨質(zhì)突起的部位，該部位黏膜較薄、彈性差，不易緩沖力，所以容易出現(xiàn)戴牙后的疼痛。而選項(xiàng)B中的牙槽嵴表面有高度角化的復(fù)層鱗狀上皮，其下有致密的黏膜下層，能承受咀嚼壓力，該區(qū)是合力主承托區(qū)，戴義齒后正常情況下不該出現(xiàn)疼痛，故應(yīng)選B.

題干：為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定，錯誤的方法是

A 增加對抗平衡固位體

B 盡力設(shè)計黏膜支持式義齒，以避免產(chǎn)生支點(diǎn)

C 在支點(diǎn)或支點(diǎn)線的對側(cè)加平衡力

D 消除合支托，卡環(huán)在余留牙上形成的支點(diǎn)

E 消除基托下與組織形成的支點(diǎn)

參考答案：B

解析：消除可摘局部義齒不穩(wěn)定的方法有，增加對抗平衡固位體，平衡力；消除支點(diǎn)。選項(xiàng)A、C、D、E符合上述要求。選項(xiàng)B中設(shè)計黏膜支持式義齒可造成義齒因無支持而均勻地下沉致不穩(wěn)定，所以黏膜支持式義齒不能避免產(chǎn)生支點(diǎn)，選項(xiàng)B錯。故應(yīng)選B.

題干：初戴上頜局部義齒時，如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭黏膜2mm，處理方法是

A 不必處理

B 腭桿組織面加白凝樹脂重襯

C 腭桿組織面緩沖

D 去腭桿，讓患者戴走

E 取下腭桿，戴義齒取印模，在模型上重新加腭桿

參考答案：E

解析：后腭桿一般應(yīng)離開黏膜0.5～1mm，該題目設(shè)計離開黏膜過高，因此應(yīng)重新取印模重新制作腭桿，故此題選E.

題干：患者兩上頜側(cè)切牙缺失，缺牙間隙略小，兩中切牙之間有一2mm間隙，最佳的修復(fù)方案為

A 只固定橋修復(fù)缺牙

B 先正畸關(guān)閉兩中切牙之間間隙，再修復(fù)

C 先光敏樹脂關(guān)閉兩中切牙之間間隙，再修復(fù)

D 可摘局部義齒修復(fù)缺牙以及牙間隙

E 兩中切牙烤瓷冠修復(fù)，然后可摘局部義齒修復(fù)缺牙

參考答案：B

解析：患者兩側(cè)切牙缺失，中切牙傾斜，使中切牙間產(chǎn)生2mm間隙。A缺牙間隙過小，使修復(fù)后側(cè)切牙形態(tài)偏小而中切牙形態(tài)較正常中切牙生理形態(tài)大。C的設(shè)計方案同A.D的設(shè)計方案不美觀，恢復(fù)咀嚼效率差。E的設(shè)計方案修復(fù)后兩中切牙形態(tài)偏大，側(cè)切牙可摘修復(fù)不美觀，且恢復(fù)咀嚼效率差。故選B.